[发明专利]一种化学机械抛光液无效
| 申请号： | 201210098385.0 | 申请日： | 2012-04-05 |
| 公开（公告）号： | CN103360953A | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 何华锋;王晨 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F1/26 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光液，包括：能侵蚀钨的化合物和至少一种钨侵蚀抑制剂，其中，该钨侵蚀抑制剂为含胍基的化合物中的一种或多种。本发明的化学机械抛光液解决了钨在高速抛光下的侵蚀保护问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，包括：能侵蚀钨的化合物和至少一种钨侵蚀抑制剂，其中，所述钨侵蚀抑制剂为含胍基的化合物中的一种或多种。
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