[发明专利]在带电粒子仪器中保护辐射检测器的方法

摘要

本发明涉及在带电粒子射束设备中保护辐射检测器的方法。本发明涉及一种在TEM中保护直接电子检测器（151）的方法。本发明包括在设置新的射束参数诸如改变聚光透镜（104）、投影器透镜（106）和/或射束能量的激发之前预测检测器上的电流密度。该预测是使用光学模型或者查表实现的。当预测的检测器暴露小于预定数值时，实现所期改变，否则产生警告消息并且推迟设置的改变。

主权项

一种在带电粒子射束设备中保护辐射检测器（151）的方法，所述设备包括用于产生带电粒子的射束的源（101）、包括用于照亮样本（111）的透镜（104）的聚光器系统、包括用于在检测器系统上形成放大的样本图像的透镜（106）的投影系统，所述检测器系统包括辐射检测器，所述方法包括：·使用第一参数集合将所述检测器暴露于辐射的步骤（200），所述参数集合包括聚光透镜设置、投影透镜设置、带电粒子射束能量和射束电流，·要求改变参数的步骤（204），其特征在于，所述方法包括：·在改变的参数下预测所述检测器将被暴露于的通量密度的步骤（206），这是在实现所述参数改变之前进行的，所述预测基于光学模型和/或查表，利用来自聚光透镜设置、投影透镜设置、带电粒子射束能量、射束电流的集合的一个或者多个输入变量作为输入，和·比较所述预测的通量密度与预定数值的步骤（208），并且根据所述比较，或者     o当所述预测的通量密度低于所述预定数值时实现所述参数改变，或者     o当所述预测的通量密度高于所述预定数值时避免将所述检测器暴露于与请求的参数改变相关联的通量密度。