[发明专利]用于制造具有弯曲特征的薄膜的方法

摘要

本发明公开了一种用于制造具有弯曲特征的薄膜的方法。通过将薄膜真空接合至衬底的顶表面来创建具有弯曲特征的轮廓传递衬底表面，其中所述顶表面中形成有空穴。将薄膜的表面暴露至流体压力，以使得薄膜变形并且薄膜的下表面与空穴的底部接触。可以通过对薄膜与衬底之间的接合区域进行退火处理来使变形薄膜中形成的弯曲特征变得永久。薄膜的暴露表面上沉积的均匀材料层将在薄膜弯曲进空穴的位置处包括弯曲特征。在薄膜上已经均匀沉积了至少一层材料之后，从底部蚀刻开空穴，以从下方移除薄膜。

主权项

一种用于制造具有弯曲特征的薄膜的方法，包括：将第一衬底的第一表面真空接合至第一薄膜层的第一表面，第一衬底的第一表面中形成有多个空穴，第一薄膜层为第二衬底的暴露层，第一薄膜层的第二表面附着至第二衬底的处理层，以及第一薄膜层的第一表面对多个空穴进行密封，以在真空接合完成时形成多个真空腔；移除第二衬底的处理层，以暴露第一薄膜层的第二表面；将第一薄膜层的第二表面暴露至流体压力，以使得第一薄膜层在多个空穴上方的区域中弯曲，并且在各个接触位置处与多个空穴的各个底表面接触；以及对第一薄膜层和第一衬底进行退火处理，以在各个接触位置处形成第一薄膜层与第一衬底之间的永久接合。