[发明专利]透明导电膜用蚀刻液组合物无效
| 申请号： | 201210102517.2 | 申请日： | 2012-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN102732254A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 山口隆雄;石川典夫 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社 |
| 主分类号： | C09K13/08 | 分类号： | C09K13/08;C09K13/04;H01B13/00 |
| 代理公司： | 北京高文律师事务所 11359 | 代理人： | 徐江华 |
| 地址： | 日本国东*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供对电极材料等中使用的铜和/或铜合金无损伤、能够蚀刻结晶质ITO膜的透明导电膜用蚀刻液组合物。包含含有1～10重量％的氟化合物的水溶液的结晶质透明导电膜用蚀刻液组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 导电 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
一种结晶质透明导电膜用蚀刻液组合物，包含含有1～10重量％的氟化合物的水溶液。
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