[发明专利]一种用于光刻机的浸没控制装置

摘要

本发明提供一种用于光刻机浸没控制装置，该装置为在投影透镜组末端元件和硅片间设置的浸没控制装置，所述的浸没控制装置包括：盖板、外构件、内构件，盖板为环形板，其上由中心向外沿径向依次开有注液口、出液口、进气口；外构件为带有阶梯形状的环形板；内构件为环形版，其外侧为阶梯形状，内侧为与投影物镜末端元件形状相匹配的锥形，其下部沿径向向外依次开有：出液下环槽、环形均压槽，其上部沿径向向外依次开有扇形槽、注液孔、出液上环槽，其中出液上环槽与出液下环槽通过均布的通孔连接。本发明该装置能够在投影透镜组末端元件和硅片间的缝隙中输送液体，并保证液体无泄漏的液体传送及密封控制装置。

主权项

一种用于光刻机浸没控制装置，在光刻机的投影透镜组末端元件(1)和待刻硅片(3)间设置的该浸没控制装置(2)，其特征在于：所述的浸没控制装置(2)包括：盖板(5)、外构件(6)和内构件(7)，盖板(5)为环形板，其上由中心向外沿径向依次开有注液口(17)、出液口(20)、进气口(8)；外构件(6)为带有阶梯形状的环形板；内构件(7)为环形板，其外侧为阶梯形状，外构件(6)与内构件(7)的阶梯形状相配合，共同构成储气槽(9)和狭缝(10)，内侧为与投影透镜组末端元件(1)形状相匹配的锥形，其下部沿径向向外依次开有：出液下环槽(15)、环形均压槽(11)，内构件(7)的环形均压槽(11)内固定有弹性元件(12)，内构件(7)的出液下环槽内(15)固定有多孔介质(16)，其上部沿径向向外依次开有扇形槽(19)、注液孔(17)、出液上环槽(13)，其中出液上环槽(13)与出液下环槽(15)通过均布的通孔(14)连接；浸没液体(4)经注液口(17)、注液孔(18)进入扇形槽(19)，沿扇形槽(19)的边缘填充投影透镜组末端元件(1)和硅片(3)间的间隙；出液口(20)连接真空低压，当浸没液体流经多孔介质(16)时经出液下环槽(15)、通孔(14)进入出液上环槽，再被真空吸附经出液口(17)流出该浸没曝光装置(2)；外部加压气体经进气口(8)注入储气槽(9)，再经狭缝(10)进入该浸没控制装置(2)下表面和硅片(3)间的间隙形成边缘狭缝气密封。