[发明专利]光掩模用基板、光掩模以及图案转印方法

摘要

本发明提供光掩模用基板、光掩模以及图案转印方法，在进行接近式曝光时，提高保持区域附近的图案转印精度。一种光掩模用基板，其用于在第1主表面上形成转印用图案而成为光掩模，在该光掩模用基板中，在四边形的第1主表面上的形成有转印用图案的图案区域之外，在第1主表面的相对的两边附近，具有包含抵接面的保持区域，当曝光机保持光掩模时，保持部件与抵接面抵接，关于保持区域，在设保持区域内的平坦度指数为Fsx、保持区域外的平坦度指数为Fex时，满足Fsx≤Fex。

主权项

一种光掩模用基板，其用于在第1主表面上形成转印用图案而成为光掩模，该光掩模用基板的特征在于，在四边形的所述第1主表面上的形成所述转印用图案的图案区域之外，在所述第1主表面的相对的两边附近，具有包含抵接面的保持区域，当曝光机保持所述光掩模时，保持部件与所述抵接面抵接，关于所述保持区域，在设该保持区域内的、处于与所述两边垂直的直线上的相隔P的任意两点的高低差是Zsx时的[Zsx/P]为平坦度指数Fsx，设该保持区域外的、处于与所述两边垂直的直线上的相隔P的任意两点的高低差是Zex时的[Zex/P]为平坦度指数Fex时，满足Fsx≤Fex，其中，所述Zsx和Zex的单位是μm，所述P的单位是mm。