[发明专利]一种尖劈型超透镜的制备方法有效
| 申请号： | 201210107639.0 | 申请日： | 2012-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN102621803A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 罗先刚;王长涛;赵泽宇;冯沁;刘凯鹏;胡承刚;黄成;杨磊磊;陶兴;张鸶懿 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F1/80 | 分类号： | G03F1/80;G03F7/20;B82Y10/00 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 杨学明;顾炜 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种尖劈型超透镜的制备方法，用于制造实现超分辨成像的尖劈型超透镜。其主要步骤为：在平整的紫外透明基底上依次涂布或沉积牺牲层和掩蔽层；在掩蔽层上涂光刻胶，曝光得到直线结构；将直线结构刻蚀传递到掩蔽层；用掩蔽层做掩蔽，对牺牲层进行各向同性刻蚀，使掩蔽层部分悬空；倾斜蒸镀多层膜；去除牺牲层、掩蔽层，得到尖劈型超透镜。本发明该方法只需要通过常规的光刻、IBE刻蚀、RIE刻蚀或湿法腐蚀、阴影蒸镀，就可以制备得到用于实现超分辨成像的尖劈型超透镜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 尖劈型超 透镜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种尖劈型超透镜的制备方法，其特征在于：该方法的步骤如下：步骤(1)在平整的紫外透明基底上依次涂布或沉积牺牲层和掩蔽层；步骤(2)在掩蔽层上涂光刻胶，曝光得到直线结构；步骤(3)将直线结构刻蚀传递到掩蔽层；步骤(4)用掩蔽层做掩蔽，对牺牲层进行各向同性刻蚀，使掩蔽层部分悬空；步骤(5)倾斜蒸镀金属/介质膜层交替组成的多层膜；步骤(6)去除牺牲层和附着在牺牲层上的掩蔽层，得到位于紫外透明基底上的尖劈型超透镜。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
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