[发明专利]液晶显示装置的制造方法和液晶显示装置有效

专利信息
申请号: 201210108792.5 申请日: 2012-04-10
公开(公告)号: CN102736298A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 土屋健司;羽泽荣作;山本洋明 申请(专利权)人: 株式会社日立显示器
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G02F1/136;G02F1/1343;H01L21/77
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈伟;孟祥海
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种液晶显示装置的制造方法以及液晶显示装置,其能够减少层数、抑制制造成本并且抑制点亮异常而实现制造成品率的提高。在使用了具有像素部(a)和周边部(c)的基板的液晶显示装置的制造方法中,在栅极绝缘膜(3)上形成半导体层(4)和像素电极(5)之后,在基板上将导电膜在整个平面上形成,将光致抗蚀剂图案(photo resist pattern)作为掩模,形成对像素部(a)的半导体层(4)与像素电极(5)进行电连接的漏电极,并且使像素部(a)和周边部(c)中的半导体层(4)露出,将周边部的半导体层(4)用作蚀刻量的指标而对像素区域(a)的半导体层(4)进行蚀刻。
搜索关键词: 液晶 显示装置 制造 方法
【主权项】:
一种液晶显示装置的制造方法,其特征在于,具有以下工序:第二工序,在基板的第一区域内形成第一半导体层,在第二区域内形成第二半导体层;第三工序,在上述第一区域内与上述第一半导体层分离地形成第一电极,在上述第二区域内与上述第二半导体层分离地形成第二电极;第四工序,形成对上述第一区域的上述第一半导体层与上述第一电极进行电连接的第三电极,并且使上述第一半导体层和上述第二半导体层露出;以及第五工序,将上述第二半导体层用作蚀刻量的指标而对所露出的上述第一半导体层进行蚀刻。
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