[发明专利]光学膜的制造方法、偏振片以及图像显示装置无效
申请号: | 201210111354.4 | 申请日: | 2012-04-16 |
公开(公告)号: | CN102749665A | 公开(公告)日: | 2012-10-24 |
发明(设计)人: | 神崎昌;古谷勉;神野亨 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10;G02B5/30;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 赵曦;金世煜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及光学膜的制造方法、偏振片以及图像显示装置。所述光学膜的制造方法包含如下工序:涂布工序,在连续输送的基材膜(11)上涂布含有活性能量射线固化性树脂的涂布液而形成涂布层;以及固化工序,在把铸模的表面推抵到所述涂布层的表面的状态下,从所述基材膜(11)侧对所述涂布层照射活性能量射线;在涂布工序中,以涂布层的前头区域中的涂布层的起始区在固化工序后的膜厚不足4μm的方式涂布涂布液。根据本发明,能够防止在铸模上发生树脂残留、且能够不发生缺陷等不良情况地连续高效地制造光学膜。 | ||
搜索关键词: | 光学 制造 方法 偏振 以及 图像 显示装置 | ||
【主权项】:
一种光学膜的制造方法,其特征在于,包含如下工序:涂布工序,在连续输送的基材膜上涂布含有活性能量射线固化性树脂的涂布液,形成涂布层;和固化工序,在把铸模的表面推抵到所述涂布层的表面的状态下,从所述基材膜侧对所述涂布层照射活性能量射线,在所述涂布工序中,以所述涂布层的前头区域中的所述涂布层的起始区所述固化工序后的膜厚不足4μm的方式涂布所述涂布液。
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