[发明专利]垂直定向的半导体器件及其屏蔽结构有效
申请号: | 201210111961.0 | 申请日: | 2012-04-16 |
公开(公告)号: | CN102956608A | 公开(公告)日: | 2013-03-06 |
发明(设计)人: | 卓秀英 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/522 | 分类号: | H01L23/522 |
代理公司: | 北京德恒律师事务所 11306 | 代理人: | 陆鑫;房岭梅 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及半导体器件。该半导体器件包括衬底。该半导体器件包括被置于衬底上方的电子器件。电子器件包括开口。该半导体器件包括:位于衬底上方并围绕电子器件的屏蔽器件。该屏蔽器件包括多个伸长件。多个伸长件的子集延伸穿过电子器件的开口。电子器件和屏蔽器件中的至少一个形成在位于衬底上方的互连结构中。本发明还提供了一种垂直定向的半导体器件及其屏蔽结构。 | ||
搜索关键词: | 垂直 定向 半导体器件 及其 屏蔽 结构 | ||
【主权项】:
一种半导体器件,包括:衬底;电子器件,被设置在所述衬底上方,所述电子器件包括开口;以及屏蔽器件,被设置在所述衬底上方并围绕着所述电子器件,所述屏蔽器件包括多个伸长件,所述伸长件的子集延伸穿过所述电子器件的所述开口;其中,所述电子器件和所述屏蔽器件中的至少一个形成在位于所述衬底上方的互连结构中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210111961.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:带瀑布式喷淋的加工中心钣金外罩
- 下一篇:用于电缆的护套和修剪机