[发明专利]一种新型的GaN基发光二极管器件及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201210114535.2 申请日: 2012-04-17
公开(公告)号: CN103378241A 公开(公告)日: 2013-10-30
发明(设计)人: 郝锐;马学进;吴质朴 申请(专利权)人: 江门市奥伦德光电有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 529000 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种新型的可提高发光效率的GaN基发光二极管器件及其制作方法,发光二极管器件包括依次层叠的衬底、第一种半导体载流子注入层、多量子阱结构、多量子阱结构的最后一个量子垒(LQB)及第二种半导体载流子注入层,所述多量子阱结构的最后一个量子垒(LQB)为多层或多组分复合结构,所述最后一个量子垒为一层或多层GaN类及其合金材料的外延结构。方法:在制作好的N型氮化镓半导体层后,采用MOCVD方法交替生长GaN层、生长InGaN层形成3-15个周期的量子阱,完成最后一个量子阱的生长后,继续生长多层或多组分复合结构的最后一个量子垒外延层。本发明制作出具有复合LQB结构的发光二极管可以有效提高二极管的发光效率和降低正向电压,并且制备方法简单,工艺过程易控制,适合量产,对生长设备和工艺条件无特殊要求。
搜索关键词: 一种 新型 gan 发光二极管 器件 及其 制作方法
【主权项】:
一种新型的GaN基发光二极管结构,其中包括:依次层叠的衬底、第一种半导体载流子注入层、多量子阱结构、多量子阱结构的最后一个量子垒(LQB)及第二种半导体载流子注入层,所述多量子阱结构的最后一个量子垒(LQB)为多层或多组分复合结构,所述最后一个量子垒为一层或多层GaN类及其合金材料的外延结构。
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