[发明专利]一种金属氧化物半导体电学参数测试器件及制造方法有效
申请号: | 201210114864.7 | 申请日: | 2012-04-18 |
公开(公告)号: | CN103378095A | 公开(公告)日: | 2013-10-30 |
发明(设计)人: | 谭灿健 | 申请(专利权)人: | 北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司 |
主分类号: | H01L27/06 | 分类号: | H01L27/06;H01L21/82 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 李娟 |
地址: | 100871 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开一种金属氧化物半导体电学参数测试器件及制造方法,栅极为金属栅极,N型衬底的第一P型阱区域与第一N+区域形成第一PN结构成第一个二极管,N型衬底的第二P型阱区域与第二N+区域形成第二PN结构成第二个二极管,第一个二极管与第二个二极管反向并联并与栅极相连形成N型金属氧化物半导体电学参数测试器件;或,N型衬底与第一P+区域形成第三PN结构成第三个二极管,N型衬底与第二P+区域形成第四PN结构成第四个二极管,第三个二极管与第四个二极管反向并联并与所述栅极相连形成P型金属氧化物半导体电学参数测试器件。通过本发明能很好的将因等离子损伤引入的正电荷或负电荷释放掉,使阈值电压变化较小。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属 氧化物 半导体 电学 参数 测试 器件 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种金属氧化物半导体电学参数测试器件,所述半导体器件的栅极为金属栅极,其特征在于,N型衬底的第一P型阱区域与第一N+区域形成的第一PN结构成第一个二极管,所述N型衬底的第二P型阱区域与第二N+区域形成的第二PN结构成第二个二极管,所述第一个二极管与所述第二个二极管反向并联,并与所述栅极相连形成N型金属氧化物半导体电学参数测试器件;或,N型衬底与第一P+区域形成的第三PN结构成第三个二极管,所述N型衬底与第二P+区域形成的第四PN结构成第四个二极管,所述第三个二极管与所述第四个二极管反向并联,并与所述栅极相连形成P型金属氧化物半导体电学参数测试器件。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的