[发明专利]光学玻璃、压制成型用玻璃料和光学元件及其制造方法有效
申请号: | 201210115192.1 | 申请日: | 2012-04-18 |
公开(公告)号: | CN102745900B | 公开(公告)日: | 2016-11-30 |
发明(设计)人: | 根岸智明 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | C03C4/00 | 分类号: | C03C4/00;C03C3/253;C03C3/155;C03C3/15;C03C3/145;C03C3/14;C03C3/068;C03C3/066 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 丁香兰;庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及光学玻璃、压制成型用玻璃料和光学元件及其制造方法,本发明的一个方式涉及一种光学玻璃,以阳离子%表示,其含有Si4+0~30%、B3+15~60%、Li+0~10%、Na+0~10%、K+0~15%、Mg2+0~20%、Ca2+0~15%、Sr2+0~20%、Ba2+0~20%、Zn2+13~40%、La3+0~11%、Gd3+0~10%、Y3+0~6%、Yb3+0~6%、Zr4+0~5%、Ti4+0~10%、Nb5+2~20%、Ta5+0~5%、W6+0~10%、Te4+0~5%、Ge4+0~5%、Bi3+0~5%、Al3+0~5%。 | ||
搜索关键词: | 光学玻璃 压制 成型 玻璃 光学 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种光学玻璃,以阳离子%表示,其含有:
该光学玻璃中,Si4+和B3+的总含量为35%~65%的范围,且B3+的含量与上述总含量之比B3+/(Si4++B3+)为0.3~1的范围,Li+、Na+和K+的总含量为0~20%的范围,Zn2+的含量与Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+和Zn2+的总含量的阳离子比Zn2+/(Mg2++Ca2++Sr2++Ba2++Zn2+)为0.30~1的范围,La3+、Gd3+和Y3+的总含量为0~7%的范围,Ti4+、Nb5+、Ta5+和W6+的总含量为10%~20%的范围,Ti4+的含量与Ti4+和Nb5+的总含量的阳离子比Ti4+/(Ti4++Nb5+)为0~0.60的范围,Ti4+和W6+的总含量与Ti4+、Nb5+、Ta5+和W6+的总含量的阳离子比(Ti4++W6+)/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+)为0~0.70的范围,该光学玻璃为不含有Pb的氧化物玻璃,其折射率nd为1.750~1.850,阿贝值νd为29.0~40.0,且玻璃化转变温度小于630℃。
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