[发明专利]一种干涉曝光系统及其曝光方法有效
| 申请号： | 201210117916.6 | 申请日： | 2012-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN103376663A | 公开（公告）日： | 2013-10-30 |
| 发明（设计）人： | 许琦欣;何帅;王帆 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种干涉曝光系统，用于对涂有光刻胶的基底曝光，入射光通过分束装置分成至少两束光束，对应形成至少两个干涉臂；每个干涉臂设置有快门，控制所在干涉臂是否参与曝光及曝光时间；至少一个干涉臂设置有相位补偿器，用于改变所在干涉臂的光束相位。一种干涉曝光方法，包括提供一基底，于基底表面涂覆光刻胶；提供入射光，将所述入射光分成两束光束，对应形成两个干涉臂；调节两个干涉臂中的一个干涉臂的光束相位，使所述干涉臂的光束相位改变180°╳N，N为整数；利用两个干涉臂对基底上的光刻胶进行多次曝光，并旋转基底，在基底光刻胶上形成多组干涉条纹相互叠加的干涉图案。本发明的优点在于能够在正负光刻胶上灵活形成孔和柱图形。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 干涉 曝光 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种干涉曝光系统，用于对涂有光刻胶的基底曝光，包括：分束装置， 入射光通过所述分束装置分成至少两束光束，对应形成至少两个干涉臂；其特征在于，每个干涉臂设置有快门，控制所在干涉臂是否参与曝光及曝光时间；至少一个干涉臂设置有相位补偿器，用于改变所在干涉臂的光束相位。
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