[发明专利]用于光刻设备的对准信号处理系统有效
| 申请号： | 201210117917.0 | 申请日： | 2012-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN103376672A | 公开（公告）日： | 2013-10-30 |
| 发明（设计）人： | 李运锋;朱正平;宋海军 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于光刻设备的对准信号处理系统，包括：信号采集模块、级次分离模块以及信号处理模块，该信号采集模块采集全部级次的光学信号并将其转换为光强数据，该级次分离模块用于对离散的光强数据进行级次分离，提取出各级次光强数据，该信号处理模块根据该各级次光强数据获得对准位置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 对准 信号 处理 系统 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的对准信号处理系统，其特征在于，包括：信号采集模块、级次分离模块以及信号处理模块，所述信号采集模块采集全部级次的光学信号并将其转换为光强数据，所述级次分离模块用于对离散的光强数据进行级次分离，提取出各级次光强数据，所述信号处理模块根据所述各级次光强数据获得对准位置。
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