[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法有效
| 申请号： | 201210118787.2 | 申请日： | 2012-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN102686005A | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | 山泽阳平 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种感应结合型等离子体处理装置，能够对在感应结合型等离子体处理中在腔室内生成的环形等离子体内的等离子体密度分布乃至基板上的等离子体密度分布进行多样化精细地控制。在该感应结合型等离子体处理装置中，设置于电介质窗(52)上的RF天线(54)在径向上被分割成内侧线圈(58)、中间线圈(60)和外侧线圈(62)。从高频电源(72)通过RF供电线(68)、RF天线(54)和接地线(70)绕回到接地电位部件的情况下，更确切地从第一节点(NA)到第二节点(NB)使各线圈的高频分支传送路旋绕的情况下，使内侧线圈(58)和外侧线圈(62)中形成逆时针回路，相对地，在中间线圈(60)中形成顺时针回路。在第一节点(NA)和第二节点(NB)之间可变中间电容器(86)和可变外侧电容器(88)分别与中间线圈(60)和外侧线圈(62)串联电连接。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：具有电介质窗的处理容器；在所述处理容器内保持被处理基板的基板保持部；处理气体供给部，其向所述处理容器内供给期望的处理气体，以用于对所述基板实施期望的等离子体处理；设置在所述电介质窗外的RF天线，其用于在所述处理容器内，通过感应结合生成处理气体的等离子体；和高频供电部，其向所述RF天线供给适合于所述处理气体的高频放电的频率的高频电力，所述RF天线具有：分别在径向隔开间隔相对地配置在内侧和外侧，并在设置于所述高频供电部的高频传送路径上的第一节点和第二节点之间并联电连接的内侧线圈和外侧线圈，在从所述第一节点到所述第二节点将各个高频分支传送路径一笔旋绕画成的情况下，使通过所述内侧线圈时的方向和通过所述外侧线圈时的方向在周向上相反，在所述第一节点和所述第二节点之间，设置有与所述内侧线圈或所述外侧线圈中的任一个串联电连接的第一电容器。
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