[发明专利]一种用于曝光装置的掩模台有效
申请号: | 201210119643.9 | 申请日: | 2012-04-20 |
公开(公告)号: | CN103376667A | 公开(公告)日: | 2013-10-30 |
发明(设计)人: | 江旭初 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种用于曝光装置的掩模台,包括:机械预对准台,其包括承版台、X向预对准机构和Y向预对准机构,所述承版台用于固定至少两种不同尺寸的掩模版,所述X向预对准机构用于实现不同尺寸掩模版的X向预对准,所述Y向预对准机构用于实现不同尺寸掩模版的Y向预对准;驱动机构,其包括Y向粗动电机、X向微动电机,所述Y向粗动电机驱动机械预对准台沿Y向进行扫描移动,以进行大行程扫描,所述X向微动电机驱动机械预对准台沿X向移动,以实现X/Rz向的微调。本发明的驱动机构采用单层驱动结构,降低小物距曝光装置中掩模台的结构设计复杂度,机械预对准台实现了大小掩模版的兼容功能,且所述驱动机构取消了传统的机械导向结构,有效简化了掩模台结构。 | ||
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【主权项】:
一种用于曝光装置的掩模台,其特征在于,包括:机械预对准台,包括承版台、X向预对准机构和Y向预对准机构;所述承版台用于承载尺寸不同的至少两种掩模版;所述X向预对准机构包括设置在承版台X向相对两侧边缘的至少一对X向定位组件,所述每对X向定位组件中至少有一个是能够沿X向移动的,并且通过所述各对X向定位组件卡紧掩模版的X向相对两侧边,使掩模版的X向中心与承版台的X向中心对准,实现掩模版的X向预对准;所述Y向预对准机构包括设置在承版台Y向相对两侧边缘的至少两对Y向定位组件,每一对Y向定位组件对应一种尺寸的掩模版,所述每对Y向定位组件中至少有一个是能够沿Y向移动的,并且通过所述一对Y向定位组件卡紧掩模版的Y向相对两侧边,使掩模版的Y向中心与承版台的Y向中心对准,实现掩模版的Y向预对准;驱动机构,包括设置于同一平面内的Y向粗动电机、X向微动电机,所述Y向粗动电机驱动所述机械预对准台沿Y向进行扫描移动,所述X向微动电机驱动机械预对准台沿X向移动,以实现X/Rz向的微调;其中,X、Y向分别是水平面内相互垂直的两个方向,Rz向表示在XY平面内的旋转方向。
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