[发明专利]利用激光诱发石墨烯的制备方法无效
| 申请号： | 201210120059.5 | 申请日： | 2012-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN103378222A | 公开（公告）日： | 2013-10-30 |
| 发明（设计）人： | 阙郁伦;丁纪嘉;林宏桥 | 申请（专利权）人： | 阙郁伦 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L21/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 周长兴 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种利用激光诱发石墨烯的制备方法，其步骤包括：提供一基板；形成一金属层于该基板上的一面；形成一碳源基材层于该金属层上；提供一激光光源，照射于该基板上使其穿越该基板至该基板与该金属层接触面上，以形成一石墨烯层；以及提供一有机溶剂及一酸液，可分别移除该碳源基材层及该金属层。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 激光 诱发 石墨 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种石墨烯的制备方法，包括：提供一基板；形成一金属层于该基板上的一面；形成一碳源基材层于该金属层上；提供一激光光源，照射于该基板上使其穿越该基板至该基板与该金属层接触面上，以形成一石墨烯层；以及提供一有机溶剂及一酸液，可分别移除该碳源基材层及该金属层。
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