[发明专利]用于形成薄膜的大容量沉积设备无效
| 申请号： | 201210120364.4 | 申请日： | 2012-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN102732843A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 宋基哲;赵晃新;郑胜哲;安佑正 | 申请（专利权）人： | 韩商SNU精密股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 闻卿 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种用于形成薄膜的大容量沉积设备，所述设备包括：多个源容器，待沉积于衬底上的源材料以固态或液态容纳于所述多个源容器中；蒸发室，所述蒸发室在所述源容器上方与所述源容器耦合并连通，且来自所述源容器的已蒸发源材料穿过所述蒸发室；喷孔，所述喷孔形成于所述蒸发室的顶部上并向上喷射穿过所述蒸发室的所述已蒸发源材料；第一加热器，所述第一加热器在所述蒸发室内部提供于所述源容器上方并供热给所述源容器以蒸发容纳于所述源容器中的所述源材料；传感器，所述传感器安装在所述蒸发室中并感测穿过所述蒸发室的已蒸发源材料的量；和控制器，所述控制器从所述传感器获得关于所述蒸发室中的已蒸发源材料的量的反馈并控制从源容器蒸发的源材料的量。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 薄膜 容量 沉积 设备 | ||
【主权项】：
一种用于形成薄膜的大容量沉积设备，所述设备包含：多个源容器，待沉积于衬底上的源材料以固态或液态容纳于所述多个源容器中；蒸发室，所述蒸发室在所述源容器上方与所述源容器耦合并连通，并且来自所述源容器的已蒸发源材料穿过所述蒸发室；喷孔，所述喷孔形成于所述蒸发室的顶部上并向上喷射穿过所述蒸发室的所述已蒸发源材料；第一加热器，所述第一加热器在所述蒸发室内部提供于所述源容器上方并供热给所述源容器以蒸发容纳于所述源容器中的所述源材料；传感器，所述传感器安装在所述蒸发室中并感测穿过所述蒸发室的已蒸发源材料的量；和控制器，所述控制器从所述传感器获得关于所述蒸发室中的已蒸发源材料的量的反馈并控制从所述源容器蒸发的源材料的量。
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