[发明专利]处理基材的设备和方法

摘要

本发明提供一种在基材上沉积薄膜的设备和方法。基材由基材保持件支撑。基材保持件安置在限定于基座的上表面中的多个保持件安置槽上。用于注入气体的注入孔限定在每个保持件安置槽的上表面中。当进行处理时，基座绕着其中心轴线旋转，并且基材保持件通过从注入孔注入的气体而绕着基材保持件的中心轴线旋转。根据基材的状态调节供应到基材保持件的下表面上的气体的流量。

主权项

一种处理基材的设备，所述设备包括：腔室，所述腔室提供在其内进行处理工艺的内部空间，所述腔室具有敞开的上侧；设置在所述腔室内的基座，所述基座在上表面中具有多个保持件安置槽，其中在每个保持件安置槽中限定有注入孔；用于使所述基座旋转的旋转轴；在其上放置基材的基材保持件，所述基材保持件插到每个保持件安置槽中；用于加热所述基座的加热器；与所述注入孔连接的气体供应管线，用于将气体供应到所述注入孔；设置在所述气体供应管线上的流量调节器，用于调节气体的流量；检测元件，用于检测放置在所述基材保持件上的每个基材的状态；和控制单元，用于根据由所述检测元件检测到的状态来控制所述流量调节器。