[发明专利]用于化学气相沉积工艺的喷淋头和改善工艺均匀性的方法无效

专利信息
申请号: 201210121860.1 申请日: 2012-04-23
公开(公告)号: CN103074604A 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: 梁秉文 申请(专利权)人: 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/52
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑玮
地址: 314300 浙江省嘉兴市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供一种用于化学气相沉积工艺的喷淋头和改善化学气相沉积工艺的均匀性的方法,所述喷淋头用于向衬底提供反应气体,所述喷淋头具有端口,所述端口具有与之对应设置的窗口透明板,所述窗口透明板作为观察通道或测试通道,通过所述窗口透明板对化学气相沉积工艺进行监控,所述窗口透明板与端口之间通有吹扫气体,所述吹扫气体用于防止反应气体在窗口透明板上发生化学反应或物理沉积。本发明使得本领域技术人员能够在化学气相沉积工艺过程中对喷淋头下方的衬底的情况进行实时监控。
搜索关键词: 用于 化学 沉积 工艺 喷淋 改善 均匀 方法
【主权项】:
一种用于化学气相沉积工艺的喷淋头,用于向衬底提供反应气体,其特征在于,所述喷淋头具有端口,所述端口具有与之对应设置的窗口透明板,所述窗口透明板作为观察通道或测试通道,通过所述窗口透明板对化学气相沉积工艺进行监控,所述窗口透明板与端口之间通有吹扫气体,所述吹扫气体用于防止反应气体在窗口透明板上发生化学反应或物理沉积。
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