[发明专利]用于化学气相沉积工艺的喷淋头和改善工艺均匀性的方法无效
申请号: | 201210121860.1 | 申请日: | 2012-04-23 |
公开(公告)号: | CN103074604A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 梁秉文 | 申请(专利权)人: | 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 314300 浙江省嘉兴市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明提供一种用于化学气相沉积工艺的喷淋头和改善化学气相沉积工艺的均匀性的方法,所述喷淋头用于向衬底提供反应气体,所述喷淋头具有端口,所述端口具有与之对应设置的窗口透明板,所述窗口透明板作为观察通道或测试通道,通过所述窗口透明板对化学气相沉积工艺进行监控,所述窗口透明板与端口之间通有吹扫气体,所述吹扫气体用于防止反应气体在窗口透明板上发生化学反应或物理沉积。本发明使得本领域技术人员能够在化学气相沉积工艺过程中对喷淋头下方的衬底的情况进行实时监控。 | ||
搜索关键词: | 用于 化学 沉积 工艺 喷淋 改善 均匀 方法 | ||
【主权项】:
一种用于化学气相沉积工艺的喷淋头,用于向衬底提供反应气体,其特征在于,所述喷淋头具有端口,所述端口具有与之对应设置的窗口透明板,所述窗口透明板作为观察通道或测试通道,通过所述窗口透明板对化学气相沉积工艺进行监控,所述窗口透明板与端口之间通有吹扫气体,所述吹扫气体用于防止反应气体在窗口透明板上发生化学反应或物理沉积。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的