[发明专利]具有减小的屏蔽层到屏蔽层间隔的磁性元件有效

专利信息
申请号: 201210124673.9 申请日: 2012-04-25
公开(公告)号: CN102760447B 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: V·B·萨波日尼科夫;E·W·辛格尔顿;M·W·科温顿 申请(专利权)人: 希捷科技有限公司
主分类号: G11B5/245 分类号: G11B5/245;G11B5/187
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 钱孟清
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种具有减小的屏蔽层到屏蔽层间隔的磁性元件。磁性元件包括具有通过间隔层与合成反铁磁(SAF)层分开且通过空气轴承表面(ABS)与存储在相邻介质中的感测数据位分开的铁磁自由层的磁响应叠片。该叠片耦合到离ABS有一预定偏距的至少一个反铁磁(AFM)调整片。
搜索关键词: 具有 减小 屏蔽 间隔 磁性 元件
【主权项】:
一种磁性叠层,包括:具有均匀叠片厚度的磁响应叠片,该磁响应叠片包括通过隧道结与合成反铁磁(SAF)层分开且通过空气轴承表面(ABS)与存储在相邻介质中的感测数据位分开的铁磁自由层;以及结合到所述磁响应叠片中的至少一个反铁磁(AFM)调整片,该AFM调整片直接耦合到所述SAF层离所述ABS有一预定偏距,其中,所述AFM调整片具有第一厚度,而所述SAF层具有第二厚度,所述第一厚度大于所述第二厚度,其中,所述AFM调整片所具有的第一厚度与所述隧道结和所述铁磁自由层的组合厚度相匹配。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于希捷科技有限公司,未经希捷科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210124673.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top