[发明专利]等离子体处理装置

摘要

本发明提供一种等离子处理装置，其具备：处理容器；工作台；电介质部件；导入微波的单元；喷射器；和电场屏蔽部。处理容器在其内部划分形成处理空间。工作台设置在处理容器内。电介质部件面对工作台设置。导入微波的单元经由电介质部件将微波导入处理空间内。喷射器为电介质制，具有一个以上的贯通孔。喷射器例如由松散电介质材料构成。该喷射器配置在电介质部件的内部。喷射器与形成在电介质部件上的贯通孔一起划分形成用于向处理空间供给处理气体的路径。电场屏蔽部覆盖喷射器的周围。

主权项

一种等离子处理装置，其特征在于，具备：划分形成处理空间的处理容器；设置在所述处理容器内的工作台；以面对所述工作台的方式设置的电介质部件；经由所述电介质部件将微波导入所述处理空间内的单元；喷射器，其为电介质制，具有一个以上的贯通孔，配置在所述电介质部件的内部，与形成在所述电介质部件中的贯通孔一起划分形成用于向所述处理空间供给处理气体用的路径；和覆盖所述喷射器的周围的电场屏蔽部。