[发明专利]光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法

摘要

光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法。本发明提供了在形成光刻图案中有用的光致抗蚀剂组合物。本发明还提供了涂覆有所述光致抗蚀剂组合物的基板和形成光刻图案的方法。所述组合物、方法和涂覆的基板在半导体器件的制造中找到了特别的应用性。提供了一种光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括：包括以下通式(I)、(II)和(III)单元的第一聚合物；并且n为1或2；第二聚合物，所述第二聚合物其是为C3-C7的烷基(甲基)丙烯酸C3-C7烷基酯的均聚物或共聚物；和光酸产生剂。

主权项

1.光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括：包括以下通式(I)、(II)和(III)单元的第一聚合物：其中：R₁表示C₁-C₃烷基；R₂表示C₁-C₃亚烷基；R₃表示氢或甲基；L₁表示内酯基团；并且n为1或2；第二聚合物，所述第二聚合物是(甲基)丙烯酸C₃-C₇烷基酯的均聚物或共聚物；和光酸产生剂。