[发明专利]等离子体处理装置有效

专利信息
申请号: 201210127627.4 申请日: 2012-04-26
公开(公告)号: CN102647847A 公开(公告)日: 2012-08-22
发明(设计)人: 角田孝典;松原克夫;安东靖典;辻藏行 申请(专利权)人: 日新电机株式会社
主分类号: H05H1/46 分类号: H05H1/46;C23C16/505;H01J37/32
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本京都府京都*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种等离子体处理装置,其是电感耦合型装置,可减小天线的有效电感系数,将等离子体电位抑制得较低,并且,可通过该天线来控制其长度方向上的等离子体密度分布。该等离子体处理装置中,由相互接近而配置在沿着竖立在基板(2)表面的垂线(3)的方向即上下方向(Z)上且使高频电流(IR)相互逆向地流动的返回导体(31、32),构成平面形状平直的天线(30)。且,使返回导体(31、32)间的上下方向(Z)的间隔(D)在天线(30)的长度方向(X)上进行变化。
搜索关键词: 等离子体 处理 装置
【主权项】:
一种等离子体处理装置,其是通过使高频电流流入平面形状为平直的天线中而使真空容器内产生感应电场,生成等离子体,且利用该等离子体对基板实施处理的电感耦合型等离子体处理装置,其特征在于:由相互接近而配置在使竖立在所述基板表面的垂线伸缩的方向上且使所述高频电流相互逆向地流动的返回导体构成所述天线,且使所述返回导体间的在使所述垂线伸缩的方向上的间隔,在所述天线的长度方向上进行变化。
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