[发明专利]一种用于圆筒状射流态直接电沉积设备的阳极无效
| 申请号： | 201210129092.4 | 申请日： | 2012-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN102634822A | 公开（公告）日： | 2012-08-15 |
| 发明（设计）人： | 邱建宁;徐纯理;赵路;李新华;杨斗 | 申请（专利权）人： | 工信华鑫科技有限公司 |
| 主分类号： | C25C7/02 | 分类号： | C25C7/02 |
| 代理公司： | 北京市盛峰律师事务所 11337 | 代理人： | 赵建刚 |
| 地址： | 100036 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于圆筒状射流态直接电沉积设备的阳极，包括阳极管、上同轴定位柱和下同轴定位柱；所述阳极管为中空的圆筒，所述阳极管的外缘面上均布射流孔，所述下同轴定位柱为中空管；所述阳极管的一端连接所述上同轴定位柱，另一端连接所述下同轴定位柱；所述阳极管、所述上同轴定位柱和所述下同轴定位柱同轴设置，并且所述阳极管的筒内空腔与所述下同轴定位柱中的中空管连通。本发明涉及的射流态圆筒状电沉积装置的核心部件之一，本发明涉及的射流态圆筒状电沉积装置能有效克服阴极表面的浓差极化，从而使金属离子在阴极上顺利地还原沉积在阴极表面。故用此阳极生产的金属原料，较以往方式生产的金属原料：纯度更为均匀，表面效果更好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 圆筒状 射流 直接 沉积 设备 阳极 | ||
【主权项】：
一种用于圆筒状射流态直接电沉积设备的阳极，其特征在于：包括阳极管、上同轴定位柱和下同轴定位柱；所述阳极管为中空的圆筒，所述阳极管的外缘面上均布射流孔，所述下同轴定位柱为中空管；所述阳极管的一端连接所述上同轴定位柱，另一端连接所述下同轴定位柱；所述阳极管、所述上同轴定位柱和所述下同轴定位柱同轴设置，并且所述阳极管的筒内空腔与所述下同轴定位柱中的中空管连通。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于工信华鑫科技有限公司，未经工信华鑫科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210129092.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种篦冷机的控制系统
- 下一篇：壁纸收卷装置
