[发明专利]镀膜静电消除装置无效
申请号: | 201210131052.3 | 申请日: | 2012-05-02 |
公开(公告)号: | CN102644060A | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | 王创茂 | 申请(专利权)人: | 福建泰兴特纸有限公司 |
主分类号: | C23C14/58 | 分类号: | C23C14/58;H05F3/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 362400 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明公开一种镀膜静电消除装置,包括真空镀膜室,所述真空镀膜室内设有放卷气涨轴、导辊和镀膜辊,所述放卷气涨轴上有原膜,所述原膜先经过离子源处理后穿过导辊进入镀膜辊再到收卷,所述真空镀膜室内安装有阳极膜线性离子源,该阳极膜线性离子源的正面发射沟道朝向所述原膜所在平面,所述阳极膜线性离子源连接高纯氩气瓶。本发明通过阳极膜线性离子源解决了镀铝产品变形、膜邹及黑线条等现象,并且解决了BOPP转移膜的静电树纹,无需增加电晕机处理,避免膜变形,可有效去除膜表面的有机污染物及氧化层,直接联机处理速度可达到350M/MIN以上,提高生产效率及产品质量合格率。 | ||
搜索关键词: | 镀膜 静电 消除 装置 | ||
【主权项】:
一种镀膜静电消除装置,包括真空镀膜室,所述真空镀膜室内设有放卷气涨轴、导辊和镀膜辊,所述放卷气涨轴上有原膜,所述原膜穿过导辊进入镀膜辊后收卷,其特征在于:所述真空镀膜室内安装有阳极膜线性离子源,该阳极膜线性离子源的正面发射沟道朝向所述原膜所在平面,所述阳极膜线性离子源连接高纯氩气瓶。
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