[发明专利]一种自修复透明抗菌涂层的制备方法无效
申请号: | 201210132441.8 | 申请日: | 2012-05-01 |
公开(公告)号: | CN102632022A | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | 孙俊奇;王旭 | 申请(专利权)人: | 吉林大学 |
主分类号: | B05D1/18 | 分类号: | B05D1/18;B05D1/38;B05C11/10 |
代理公司: | 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 | 代理人: | 张景林;刘喜生 |
地址: | 130012 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明属于自修复透明抗菌涂层制备技术领域,具体涉及一种利用层层组装技术制备具有自修复能力的透明抗菌涂层的方法。所制备的涂层对革兰氏阴、阳性菌均有很好抑制作用。该涂层在可见光区拥有高的透过率,并且由于机械损伤引起涂层透明度的下降可以通过简单地将涂层浸泡在水中或向涂层喷水而实现其修复。利用这种修复手段,涂层的透明度首次实现了同一区域多次的完全自修复。这种自修复透明抗菌涂层的制备方法简单,所用的原料无毒无害,相信这种方法的提出将对材料科学、表面化学等方面的研究有一定贡献,这种自修复透明抗菌涂层有望在触摸人机界面(如触摸显示屏)等领域有广泛的应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 修复 透明 抗菌 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种基于层层组装技术制备自修复透明抗菌涂层的方法,其步骤如下:A.将聚阳离子和聚阴离子分别溶于溶剂配成浓度为0.01~100mg/mL、pH值为1~14的构筑基元溶液;B.将清洁处理后的基底浸入到聚阳离子构筑基元溶液中1~40分钟,然后将基底取出,水洗除去基底表面物理吸附的物质;C.将上步骤基底浸入聚阴离子构筑基元溶液中1~40分钟,然后将基底取出,水洗除去基底表面物理吸附的物质;从而完成一个沉积周期的涂层制备;D.重复步骤B、C,在基底上完成多个沉积周期的涂层的制备,从而得到具有自修复透明涂层的基底;E.将抗菌剂溶液分散到浓度为0.01~1mol/L的表面活性剂溶液中,抗菌剂与表面活性剂的摩尔比为1∶300~1∶50,超声5~200分钟后得到抗菌剂溶液;F.将具有自修复透明涂层的基底浸泡在上步骤的抗菌剂溶液中5~200分钟,然后将基底取出,水洗后用氮气吹干,从而在基底上制备得到自修复透明抗菌涂层。
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