[发明专利]铜研磨用研磨剂的应用无效
| 申请号： | 201210135608.6 | 申请日： | 2010-02-12 |
| 公开（公告）号： | CN102703027A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 小野裕;筱田隆;冈田悠平 | 申请（专利权）人： | 日立化成工业株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;B24B37/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 铜研磨用研磨剂，其含有(A)二元以上的无机酸、(B)氨基酸、(C)保护膜形成剂、(D)磨粒、(E)氧化剂和(F)水，(A)成分的含量为0.08摩尔/千克以上，(B)成分的含量为0.20摩尔/千克以上，(C)成分的含量为0.02摩尔/千克以上，满足下述(i)和(ii)的至少一者。(i)(A)成分的含量与(C)成分的含量的比率为2.00以上。(ii)还含有(G)选自有机酸及其酸酐中的至少一种。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 研磨剂 应用 | ||
【主权项】：
一种在对含铜的金属膜进行研磨并将该金属膜的至少一部分除去的研磨方法中的研磨剂的应用，所述研磨剂含有(A)二元以上的无机酸、(B)氨基酸、(C)保护膜形成剂、(D)磨粒、(E)氧化剂、(F)水和(G)选自有机酸及其酸酐中的至少一种，所述(A)成分的含量为0.08摩尔/千克以上，所述(B)成分的含量为0.20摩尔/千克以上，所述(C)成分的含量为0.02摩尔/千克以上，所述(G)成分的含量为0.02摩尔/千克以上。
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