[发明专利]用来对锗-锑-碲合金进行抛光的化学机械抛光组合物和方法有效
| 申请号： | 201210139136.1 | 申请日： | 2012-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN102756326A | 公开（公告）日： | 2012-10-31 |
| 发明（设计）人： | 李在锡;郭毅;K-A·K·雷迪;张广云 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 江磊 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用来对包含锗-锑-碲硫属化物相变合金(GST)的基片进行化学机械抛光的方法，该方法使用化学机械抛光组合物，所述化学机械抛光组合物主要由以下作为初始组分的物质组成：水；磨料；选自乙二胺四乙酸及其盐的材料；氧化剂；所述化学机械抛光组合物促进获得高的GST去除速率，并且缺陷率低。 | ||
| 搜索关键词： | 用来 合金 进行 抛光 化学 机械抛光 组合 方法 | ||
【主权项】：
一种用来对基片进行化学机械抛光的方法，该方法包括：提供基片，所述基片包含锗‑锑‑碲相变合金；提供化学机械抛光组合物，所述化学机械抛光组合物主要由以下作为初始组分的物质组成：水；0.1‑5重量％的磨料；0.001‑5重量％的选自乙二胺四乙酸及其盐的材料；0.001‑3重量％的氧化剂，所述氧化剂是过氧化氢；其中，所述化学机械抛光组合物的pH值为7.1‑12；提供化学机械抛光垫；在化学机械抛光垫和基片之间的界面处形成动态接触；在所述化学机械抛光垫和基片之间的界面处或界面附近，将所述化学机械抛光组合物分配到所述化学机械抛光垫上；将至少一部分所述锗‑锑‑碲相变合金从所述基片除去。
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