[发明专利]双面图形化透明导电膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201210141850.4 申请日: 2012-05-09
公开(公告)号: CN102708946A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 高育龙;崔铮 申请(专利权)人: 崔铮
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14;H01B13/00
代理公司: 北京中恒高博知识产权代理有限公司 11249 代理人: 高松
地址: 英国牛津阿*** 国省代码: 英国;GB
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摘要: 发明提出了一种双面图形化透明导电膜及其制备方法,该双面图形化透明导电膜包括上表面导电层和下表面导电层,所述双面图形化透明导电膜的上表面导电层是图形化的沟槽网络,所述的下表面导电层是全表面的沟槽网络;所述的上表面导电层的沟槽中均填充有导电材料;所述的下表面导电层沟槽中间断填充导电材料。本发明所提供的双面图形化透明导电膜具有高分辨率,透过率和方阻独立可调等诸多优点;这种透明导电膜可以省去一张PET的成本;制备方法对于单张柔性基材的双面压印不需要对准,方法简单,成本低,适合于工业化生产。
搜索关键词: 双面 图形 透明 导电 及其 制备 方法
【主权项】:
一种双面图形化透明导电膜,包括上表面导电层和下表面导电层,其特征在于,所述双面图形化透明导电膜的上表面导电层是图形化的沟槽网络,所述的下表面导电层是全表面的沟槽网络;所述的上表面导电层的沟槽中均填充有导电材料;所述的下表面导电层沟槽中间断填充导电材料。
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