[发明专利]柱体工件磁流变抛光系统无效
申请号: | 201210142221.3 | 申请日: | 2012-05-10 |
公开(公告)号: | CN102632434A | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | 尹更新;李小红;李新忠;张瑞州;张利平;张占立;邓四二 | 申请(专利权)人: | 河南科技大学 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00 |
代理公司: | 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 | 代理人: | 李宗虎 |
地址: | 471003 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 柱体工件磁流变抛光系统,主要由数控主轴装置、抛光主体、磁场发生装置和液体循环装置组成,抛光主体的一端顶在顶尖轴上,另一端与数控主轴连接,数控主轴带动抛光主体运动至循环抛光池上方,启动磁场发生装置,保证柱体工件母线处各点所受的磁场力相同;下压携带抛光主体的数控主轴,使得柱体工件与磁流变抛光液接触;启动液体循环装置使液体沿同一方向流动,启动主轴电机,在磁场的作用下使磁流变液体变成半固体状态的柔性抛光磨头对柱体工件进行抛光,该系统在液体循环装置中设置液体回流管调整磁流变抛光液朝同一方向有序流动,磁流变抛光液进入抛光池与工件有相对运动时,工件表面会受到大小一致的磨削力,使得加工后的柱面工件粗糙度更小,表面更加均匀一致。 | ||
搜索关键词: | 柱体 工件 流变 抛光 系统 | ||
【主权项】:
柱体工件磁流变抛光系统,其特征在于:主要由数控主轴装置、抛光主体、磁场发生装置和液体循环装置组成,抛光主体的一端顶在顶尖轴(2)上,另一端与数控主轴(1)连接,由数控主轴带动抛光主体做旋转运动,所述的抛光主体由旋转体Ⅰ(3)、柱体工件(4)和旋转体Ⅱ(5)组成,柱体工件(4)位于旋转体Ⅰ(3)和旋转体Ⅱ(5)之间,柱体工件的两端通过粘接体与旋转体Ⅰ和旋转体Ⅱ相连接,旋转体Ⅰ(3)、柱体工件(4)和旋转体Ⅱ(5)同轴设置;所述的磁场发生装置位于柱体工件的一侧保证柱体工件母线处各点所受的磁场力相同,所述的液体循环装置主要循环抛光池(6)、设置在循环抛光池上的液体回流管(7)和循环抛光池内的搅拌装置组成,在循环抛光池(6)内装有磁流变抛光液,启动循环抛光池(6)内的搅拌装置进行混合搅拌磁流变抛光液,数控主轴(1)带动抛光主体运动至循环抛光池(6)上方,启动磁场发生装置,保证柱体工件母线处各点所受的磁场力相同;下压携带抛光主体的数控主轴,使得柱体工件(4)与磁流变抛光液接触;启动液体循环装置使液体沿同一方向流动,启动主轴电机,在磁场的作用下使磁流变液体变成半固体状态的柔性抛光磨头,按照设定程序进行抛光,最终达到要求的加工精度。
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