[发明专利]一种新型双面导电膜制作工艺无效
| 申请号： | 201210147043.3 | 申请日： | 2012-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN102664076A | 公开（公告）日： | 2012-09-12 |
| 发明（设计）人： | 郝怀庆;蔡荣军;于甄;吕敬波 | 申请（专利权）人： | 南昌欧菲光科技有限公司 |
| 主分类号： | H01B13/00 | 分类号： | H01B13/00;H01B5/14 |
| 代理公司： | 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 | 代理人： | 施秀瑾 |
| 地址： | 330000 江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种透光率较高的新型双面导电膜，该导电膜可广泛应用在平面显示的制造领域中。其制作工艺的如下：柔性透明薄膜，为聚对苯二甲酸乙二醇酯，柔性透明薄膜是一种折射率为1.4-1.5的柔性材料；加硬层是对柔性透明薄膜的表面硬化处理层，是以涂布的方式在柔性透明薄膜的上下两个表面完成加硬层的制作；粘结层以磁控溅射的方式溅射到加硬层表面的，镀制粘结层的主要目的是使加硬层和高折射率介质层更牢固的贴合在一起；高折射率介质层，一种折射率介于1.8-2.5之间的高折射率材料；低折射率介质层，一种折射率介于1.4-1.8的低折射率材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 双面 导电 制作 工艺 | ||
【主权项】：
一种新型双面导电膜制作工艺，该膜的结构为该双面导电膜的中间层为柔性透明薄膜（1），自柔性透明薄膜（1）的上表面依次向上有加硬层（2）、粘结层（3）、高折射率介质层（4）、低折射率介质层（5）、氧化铟锡透明导电层（6）；自柔性透明薄膜（1）的下表面依次向下有加硬层（2）、粘结层（3）、高折射率介质层（4）、低折射率介质层（5）、氧化铟锡透明导电层（6），其制作工艺的特征如下：柔性透明薄膜（1），为聚对苯二甲酸乙二醇酯，柔性透明薄膜（1）是一种折射率为1.4‑1.5的柔性材料；加硬层（2）是对柔性透明薄膜（1）的表面硬化处理层，是以涂布的方式在柔性透明薄膜（1）的上下两个表面完成加硬层（2）的制作；粘结层（3）以磁控溅射的方式溅射到加硬层（2）表面的，镀制粘结层的主要目的是使加硬层（2）和高折射率介质层（4）更牢固的贴合在一起；高折射率介质层（4），一种折射率介于1.8‑2.5之间的高折射率材料；低折射率介质层（5），一种折射率介于1.4‑1.8的低折射率材料；氧化铟锡透明导电层（6）是通过磁控溅射的方法将铟锡氧化物从靶材表面轰击出溅射到低折射率介质层（5）上，氧化铟锡陶瓷靶材中In2O3和SnO2按照一定的重量份配比掺杂在一起，配比关系在99/1‑90/10之间。
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