[发明专利]TiMoN硬质纳米结构薄膜及制备方法无效
| 申请号： | 201210151582.4 | 申请日： | 2012-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN102650030A | 公开（公告）日： | 2012-08-29 |
| 发明（设计）人： | 许俊华;喻利花;鞠宏博 | 申请（专利权）人： | 江苏科技大学 |
| 主分类号： | C23C14/00 | 分类号： | C23C14/00;C23C14/34;C23C14/06 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 楼高潮 |
| 地址： | 212003*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种TiMoN硬质纳米结构薄膜及制备方法，薄膜采用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上制备得到，所述的薄膜分子式表示为（TixMo1-x）N，其中x=25.67～70.13at.﹪，薄膜厚度在2-3μm，薄膜最高硬度为36.37GPa，干切削实验下，最低摩擦系数为0.3917，最低磨损率为1.270×10-8mm3/Nmm。利用双靶共焦射频反应溅射法在硬质合金或陶瓷基体上沉积TiMoN硬质纳米结构薄膜，沉积时，真空度为＜6.0×10-4Pa，以氩气起弧，氮气为反应气进行沉积。 | ||
| 搜索关键词： | timon 硬质 纳米 结构 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种TiMoN硬质纳米结构薄膜，薄膜采用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上制备得到，其特征在于，所述的薄膜分子式表示为（TixMo1‑x）N，其中x=25.67～70.13at.﹪，薄膜厚度在2‑3μm，薄膜最高硬度为36.37GPa，干切削实验下，最低摩擦系数为0.3917，最低磨损率为1.270×10‑8mm3/Nmm。
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