[发明专利]一种脱硫用分子印迹材料及其制造方法无效
| 申请号： | 201210154683.7 | 申请日： | 2012-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN102731719A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 林立刚;王安栋;张龙辉;董美美;张玉忠 | 申请（专利权）人： | 天津工业大学 |
| 主分类号： | C08F226/06 | 分类号： | C08F226/06;C08F222/14;C08F212/36;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30;C10G25/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300160*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明属于分子印迹材料制备技术及其应用方向，涉及一种脱硫用分子印迹材料的制造方法。具体地说是以乙烯基吡啶为功能单体、苯并噻吩类硫化物为模板分子，选择适当的交联方法，制备出对硫化物具有识别、吸附功能的分子印迹材料。通过将功能单体、模板分子、交联剂发生聚合反应，再通过洗脱的方法将聚合物中的模板分子去除，形成的分子印迹材料具有与苯并噻吩类硫化物空间匹配的多重作用位点。该分子印迹材料对苯并噻吩类硫化物可以有效识别和脱除。该制造方法过程简单、易放大推广。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 脱硫 分子 印迹 材料 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种脱硫用分子印迹材料，其制造液的质量百分比配方为：乙烯基吡啶单体 2～10％；模板分子 1～5％；溶剂 85～97％，各组分之和为100％。
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