[发明专利]真空吸盘式对位系统在审
申请号: | 201210154719.1 | 申请日: | 2012-05-17 |
公开(公告)号: | CN102683505A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
发明(设计)人: | 郭业祥;杨顺先;邓小明;刘惠森 | 申请(专利权)人: | 东莞宏威数码机械有限公司 |
主分类号: | H01L31/20 | 分类号: | H01L31/20;H01L21/68 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 张艳美;郝传鑫 |
地址: | 523000 广东省东莞市南城*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种真空吸盘式对位系统,其固定平台装置、旋转平台装置上均开设有气孔,对位调节装置包括X轴调节机构、Y轴调节机构及Z轴调节机构,旋转平台装置沿X轴方向滑动地连接于X轴调节机构的上端,X轴调节机构的下端沿Y轴方向滑动地连接于Y轴调节机构的上端,Y轴调节机构的下端固定于Z轴调节机构上,Z轴调节机构沿Z轴方向活动地连接于底座上;通过抽真空系统将工件吸附于固定平台装置、旋转平台装置上,固定工件方便快捷,不需装夹避免损坏工件表面;对位调节装置可高效地调节X轴、Y轴、Z轴方向的位置,旋转平台装置可绕Z轴旋转,调节方便快捷,精确实现不同高度且非接触的两工件的对位,采用CCD对位装置,对位精度高且操作方便。 | ||
搜索关键词: | 真空 吸盘 对位 系统 | ||
【主权项】:
一种真空吸盘式对位系统,适用于对非接触的两工件进行对位,其特征在于:包括对位装置、固定平台装置、旋转平台装置、对位调节装置及底座,所述对位调节装置连接于所述底座上,所述旋转平台装置连接于所述对位调节装置的上方,所述固定平台装置设置于所述旋转平台装置的一侧,并与所述旋转平台装置相对应,所述对位装置设置于所述固定平台装置的上方,且所述固定平台装置、旋转平台装置上均开设有气孔并与抽真空系统连接,其中所述对位调节装置包括X轴调节机构、Y轴调节机构及Z轴调节机构,所述旋转平台装置滑动地连接于所述X轴调节机构的上端,并可沿X轴方向水平滑动,所述X轴调节机构的下端滑动地连接于所述Y轴调节机构的上端,并可沿Y轴方向水平滑动,所述Y轴调节机构的下端固定于所述Z轴调节机构上,且所述Z轴调节机构活动地连接于所述底座上,并可相对所述底座沿Z轴方向运动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东莞宏威数码机械有限公司,未经东莞宏威数码机械有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210154719.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的