[发明专利]含有苯并恶唑及苯并噻唑基团的杂芳基乙炔类化合物的结构及制备方法无效
| 申请号： | 201210157369.4 | 申请日： | 2012-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN102659708A | 公开（公告）日： | 2012-09-12 |
| 发明（设计）人： | 庄俊鹏;姜龙;张曙光;郝海军 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C07D263/32 | 分类号： | C07D263/32;C07D277/22;C07D277/24;C07D277/28;C07D401/06 |
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| 地址： | 100029 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种含有苯并恶唑及苯并噻唑基团的杂芳基乙炔类化合物的结构及其制备方法。以含有苯并恶唑及苯并噻唑基团的杂芳基乙烯类化合物为原料，通过在有机溶剂中与溴反应，得到加溴产物。再通过在有机溶剂中，与碱反应，脱去溴化氢而得到杂芳基乙炔类化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 噻唑 基团 杂芳基 乙炔 化合物 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.含有苯并恶唑及苯并噻唑基团的杂芳基乙炔类化合物的典型结构如下所示：(1)、苯乙炔基苯并恶唑和苯乙炔基苯并噻唑类衍生物![]()
其中X＝O或SR＝H、C1～C10的烷基、C1～C10的烷氧基、F、Cl、Br、I、CN等R’＝H、C1～C10的烷基、C1～C10的烷氧基、F、Cl、Br、I、CN等(2)、萘乙炔基苯并恶唑和萘乙炔基苯并噻唑类衍生物![]()
其中X＝O或SR＝H、C1～C10的烷基、C1～C10的烷氧基、F、Cl、Br、I、CN等R’＝H、C1～C10的烷基、C1～C10的烷氧基、F、Cl、Br、I、CN等(3)、双苯并恶唑乙炔和双苯并噻唑乙炔类衍生物![]()
其中X＝O或SR’＝H、C1～C10的烷基、C1～C10的烷氧基、F、Cl、Br、I、CN等(4)、1-(4-吡啶基)-2-(2-苯并恶唑基)乙炔和1-(2-吡啶基)-2-(2-苯并恶唑基)乙炔类衍生物![]()
其中X＝O或SR’＝H、C1～C10的烷基、C1～C10的烷氧基、F、Cl、Br、I、CN等。
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