[发明专利]滤波范围540~760nm的无掺杂层光子晶体光学滤波器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201210157916.9 申请日: 2012-05-21
公开(公告)号: CN102645694A 公开(公告)日: 2012-08-22
发明(设计)人: 李萍;熊国欣;梁高峰;张晓丽;蔺利峰;雷茂生;宋孟丹;罗恩斯 申请(专利权)人: 河南科技大学
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;B32B9/04
代理公司: 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 代理人: 罗民健
地址: 471000 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 滤波范围540~760nm的无掺杂层光子晶体光学滤波器及其制作方法,滤波器包括光子晶体层和镜头玻璃,光晶晶体层设置在镜头玻璃表面,光子晶体层由10层D介质层和10层E介质层相互交替叠加构成(DE)5(ED)5型复合结构,所述的D为硫化锌,E为氟化镁,采用简单的无掺杂光子晶体结构,只是改变了一次镀膜顺序,大大降低了加工难度和对精度的要求。根据需要透过的单色光频率选择合适的光子晶体结构参数,实现单色光透过的滤波器,对选定频率单色光透过率达到100%的滤波效果。
搜索关键词: 滤波 范围 540 760 nm 掺杂 光子 晶体 光学 滤波器 及其 制作方法
【主权项】:
滤波范围540~760nm的无掺杂层光子晶体光学滤波器,其特征在于:滤波器包括光子晶体层(1)和镜头玻璃(2),光晶晶体层(1)设置在镜头玻璃(2)表面,光子晶体层(1)由10层D介质层和10层E介质层相互交替叠加构成(DE)5(ED)5型复合结构,所述的D为硫化锌,E为氟化镁,其中(DE)5表示5层D介质和E介质交替叠加构成的复合介质层,其中D介质层的厚度为67.34nm,E介质层的厚度为114.674nm,该复合介质层设置在光子晶体层(1)的内侧,并与镜头玻璃连接;其中(ED)5表示5层E介质和D介质交替叠加构成的复合介质层,其中D介质层的厚度为67.34nm,E介质层的厚度为114.674nm,该复合介质层设置在光子晶体层(1)外侧。
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