[发明专利]用于光刻设备的对准信号处理装置及对准装置有效
| 申请号： | 201210159468.6 | 申请日： | 2012-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN103425006A | 公开（公告）日： | 2013-12-04 |
| 发明（设计）人： | 程鹏;王海江;唐文力 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于光刻设备的对准信号处理装置，其特征在于，包括：一对准信号转换模块，用于将该对准信号转换为一待解调信号；一相位差检验模块，用于采集一参考信号，并检测该待解调信号与该参考信号的相位差；一参考信号再生模块，根据该相位差对该参考信号进行延迟并生成一正弦参考信号；一解调模块，用于根据该正弦参考信号对该待解调信号进行解调。本发明同时提供一种用于光刻设备的对准装置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 对准 信号 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的对准信号处理装置，其特征在于，包括：一对准信号转换模块，用于将所述对准信号转换为一待解调信号；一相位差检验模块，用于采集一参考信号，并检测所述待解调信号与所述参考信号的相位差；一参考信号再生模块，根据所述相位差对所述参考信号进行延迟并生成一正弦参考信号；一解调模块，用于根据所述正弦参考信号对所述待解调信号进行解调。
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