[发明专利]一种有源相控阵天线结构公差的快速确定方法无效
申请号: | 201210162446.5 | 申请日: | 2012-05-23 |
公开(公告)号: | CN102708257A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 王从思;康明魁;段宝岩;王伟;徐慧娟;王猛;黄进;保宏;朱敏波;陈光达 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 西安吉盛专利代理有限责任公司 61108 | 代理人: | 张培勋 |
地址: | 710071 陕西省*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明属于雷达天线技术领域,具体涉及一种有源相控阵天线结构公差的快速确定方法,其步骤是:步骤1,确定天线阵面辐射单元信息;步骤2,获取阵面辐射单元的高度误差;步骤3,获取阵面辐射单元的位置安装误差;步骤4,计算天线口面相位误差;步骤5,计算天线远区电场分布;步骤6,计算天线相关的电性能参数;步骤7,依据战术技术指标要求,判断计算出当前结构公差条件下的天线电性能是否满足要求,若不满足要求,则进行步骤8和步骤9;若满足要求,则直接转到步骤10;当前的辐射单元的位置与高度公差就是所快速确定的天线结构公差。它有效解决在难以快速确定与分配天线结构公差的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 有源 相控阵 天线 结构 公差 快速 确定 方法 | ||
【主权项】:
一种有源相控阵天线结构公差的快速确定方法,其特征是:至少包括如下步骤:步骤1,确定天线阵面辐射单元信息;步骤2,获取阵面辐射单元的高度误差;步骤3,获取阵面辐射单元的位置安装误差;步骤4,计算天线口面相位误差;步骤5,计算天线远区电场分布;步骤6,计算天线相关的电性能参数;步骤7,依据战术技术指标要求,判断计算出当前结构公差条件下的天线电性能是否满足要求,若不满足要求,则进行步骤8和步骤9;若满足要求,则直接转到步骤10;步骤8,修改阵面平面度;步骤9,修改阵面安装精度,并重新进行步骤2至步骤7;步骤10,当前的辐射单元的位置与高度公差就是所快速确定的天线结构公差。
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