[发明专利]雪崩光电二极管及雪崩光电二极管阵列无效

专利信息
申请号: 201210165691.1 申请日: 2012-05-25
公开(公告)号: CN102800715A 公开(公告)日: 2012-11-28
发明(设计)人: 笹畑圭史;中路雅晴 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/107;H01L25/03
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 何欣亭;王忠忠
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明得到能实现较大的开口率的雪崩光电二极管。在n型InP衬底(1)的主表面上,依次层叠了雪崩倍增层(3)、p型InP电场缓冲层(4)、光吸收层(5)、及掺杂InP窗层(6)。在掺杂InP窗层(6)的一部分设有p型杂质区域(8)。直线状p侧电极(9)配置在p型杂质区域(8)上且与p型杂质区域(8)连接。直线状p侧电极(9)从与n型InP衬底(1)的主表面相向的平面上看呈直线状。
搜索关键词: 雪崩 光电二极管 阵列
【主权项】:
一种雪崩光电二极管,其特征在于,包括:第一导电型的半导体衬底;在所述半导体衬底的主表面上依次层叠的雪崩倍增层、电场缓冲层、光吸收层、及窗层;设于所述窗层的一部分的第二导电型的杂质区域;以及直线状电极,其配置在所述杂质区域上且与所述杂质区域连接,从与所述半导体衬底的所述主表面相向的平面上看该电极呈直线状。
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