[发明专利]对位标识及在曝光工艺中采用该对位标识制作工件的方法有效

专利信息
申请号: 201210169572.3 申请日: 2012-05-28
公开(公告)号: CN102692831A 公开(公告)日: 2012-09-26
发明(设计)人: 于航 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G03F1/42;G03F7/20
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 罗建民;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种对位标识,其包括N个对位标记,所述N个对位标记分别设于N个掩模板上,所述第一对位标记包括第一子标记和第二子标记,所述第一子标记和第二子标记设于第一掩模板上且关于第一掩模板上的一点形成中心对称;除第一掩模板外的其他掩模板上的各个对位标记的形状均相同或相似,第i掩模板上的第i对位标记包括第五子标记和第六子标记,所述第五子标记和第六子标记均为条状,且垂直相交呈十字形,第五子标记和第六子标记的宽度设置为能够从所述第一子标记和第二子标记之间的间距中穿过而不与第一子标记和第二子标记重叠。该对位标识能够有效地解决现有技术的曝光工艺中因对位图形或对位标记缺失而导致曝光机无法对位的问题。
搜索关键词: 对位 标识 曝光 工艺 采用 制作 工件 方法
【主权项】:
一种对位标识,用于曝光工艺中制作具有N层图形的工件,其中N为正整数且N≥2,该对位标识包括N个对位标记,所述N个对位标记分别设于N个掩模板上,所述N个掩模板分别用于制作所述工件的N层图形,设定用于制作工件第一层图形的掩模板为第一掩模板,设于所述第一掩模板上的对位标记为第一对位标记,设定用于制作工件第i层图形的掩模板为第i掩模板,设于所述第i掩模板上的对位标记为第i对位标记,其中i的取值范围为2~N,其特征在于,所述第一对位标记包括第一子标记和第二子标记,所述第一子标记和第二子标记设于第一掩模板上且关于第一掩模板上的一点形成中心对称;当N=2时,所述第二掩模板上的第二对位标记包括第五子标记和第六子标记,所述第五子标记和第六子标记均为条状,且垂直相交呈十字形,第五子标记和第六子标记的宽度设置为能够从所述第一子标记和第二子标记之间的间距中穿过而不与第一子标记和第二子标记重叠;当N>2时,除第一掩模板外的其他掩模板上的各个对位标记的形状均相同或相似,第i掩模板上的第i对位标记包括第五子标记和第六子标记,所述第五子标记和第六子标记均为条状,且垂直相交呈十字形,第五子标记和第六子标记的宽度设置为能够从所述第一子标记和第二子标记之间的间距中穿过而不与第一子标记和第二子标记重叠。
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