[发明专利]一种具有交叉光栅结构的发光二极管及其制备方法有效
申请号: | 201210169975.8 | 申请日: | 2012-05-29 |
公开(公告)号: | CN102709419A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 张雄;郭浩;韩乐;崔一平 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | H01L33/10 | 分类号: | H01L33/10;H01L33/00 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 210096*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供了一种具有交叉光栅结构的发光二极管及其制备方法,该发光二极管包括衬底(1),生长在衬底(1)上的具有第一光栅结构的介质薄膜层(2),与介质薄膜层(2)键合在一起的具有第二光栅结构的p型GaN外延层(3),生长在p型GaN外延层(3)上的InGaN多量子阱有源发光层(4)和生长在InGaN多量子阱有源发光层(4)上的n型GaN外延层(5),其中,第一光栅结构与第二光栅结构以0~90°之间的任一交叉角度键合在一起,构成交叉光栅结构。本发明有效提高发光二极管的出光效率,有利于进一步提高发光二级管的光提取效率和导热性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 交叉 光栅 结构 发光二极管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种具有交叉光栅结构的发光二极管,其特征在于:该发光二极管包括衬底(1),生长在衬底(1)上的具有第一光栅结构的介质薄膜层(2),与介质薄膜层(2)键合在一起的具有第二光栅结构的p型GaN外延层(3),生长在p型GaN外延层(3)上的InGaN多量子阱有源发光层(4)和生长在InGaN多量子阱有源发光层(4)上的n型GaN外延层(5),其中,第一光栅结构与第二光栅结构以0~90°之间的任一交叉角度键合在一起,构成交叉光栅结构。
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