[发明专利]圆片集成微透镜光学系统制作方法及该器件结构有效
申请号: | 201210170139.1 | 申请日: | 2012-05-28 |
公开(公告)号: | CN102701142A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 徐德辉;熊斌;姚邵康;马颖蕾;胡斌;王跃林 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00;G03F7/00;G02B3/00 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 李仪萍 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种圆片集成微透镜光学系统制作方法,所述制作方法包括以下步骤:1)提供一硅衬底,在其上下表面沉积腐蚀掩膜层;通过光刻、刻蚀制作出腐蚀窗口图形;2)自所述腐蚀窗口腐蚀硅衬底;形成腐蚀腔体,同时形成悬浮薄膜;3)利用悬浮薄膜的塑性形变形成悬浮薄膜微结构;从而形成微透镜结构;4)将所述微透镜结构与光学系统进行圆片级键合组装,形成密封腔体。由于微透镜结构是凹陷在衬底内部,采用圆盘键合工艺将微透镜和光学器件进行圆片组装并不会导致微透镜结构破裂。由于采用了圆片级键合进行微透镜和光学器件的组装,最终光学系统的尺寸可以大大减小,系统组装效率也能得到大幅提高。 | ||
搜索关键词: | 集成 透镜 光学系统 制作方法 器件 结构 | ||
【主权项】:
一种圆片集成微透镜光学系统制作方法,其特征在于,所述制作方法包括以下步骤:1)提供一硅衬底,在其上下表面沉积腐蚀掩膜层;通过光刻、刻蚀制作出腐蚀窗口图形;2)自所述腐蚀窗口腐蚀硅衬底;形成腐蚀腔体,同时形成悬浮薄膜;3)利用悬浮薄膜的塑性形变形成悬浮薄膜微结构;从而形成微透镜结构;4)将所述微透镜结构与光学系统进行圆片级键合组装,形成密封腔体。
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