[发明专利]凹面全息光栅制作中的曝光光路系统及调整回转中心的方法有效
| 申请号： | 201210170225.2 | 申请日： | 2012-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN102681366A | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | 王琦;李柏承;朱沛;张大伟;黄元申;倪争技;庄松林 | 申请（专利权）人： | 上海理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/18 |
| 代理公司： | 上海东创专利代理事务所(普通合伙) 31245 | 代理人： | 宁芝华 |
| 地址： | 200093 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 凹面全息光栅制作中的曝光光路系统及调整回转中心的方法，光源的光依次与第一全反镜，分束镜；第二全反镜，第三全反镜；第一空间滤波器；第二空间滤波器；凹面全息光栅基片通过光连接；凹面全息光栅基片放置于二维平移装置上方的夹具内；在凹面全息光栅基片放置处放置第四全反镜，从光源出射的光线正入射到第四全反镜的中心，利用二维平移装置使旋转台顺时针方向旋转180度和90度，再次使第二全反镜反射的光线正入射到第四全反镜的中心，此时第四全反镜的中心位置即为转台中心位置。本发明精确确定转台的回转中心，并调节凹面全息光栅基片中心位于转台的回转中心上，对于制作凹面光栅质量至关重要，尤其是对像差的优化起着决定作用。 | ||
| 搜索关键词： | 凹面 全息 光栅 制作 中的 曝光 系统 调整 回转 中心 方法 | ||
【主权项】：
一种凹面全息光栅制作中的曝光光路系统，包括：光源（1），第一全反镜（2），分束镜（3），第二全反镜（4），第三全反镜（5），第一空间滤波器（6），第二空间滤波器（7），凹面全息光栅基片（8），二维平移装置（12），第四全反镜；其特征在于：A)凹面全息光栅制作中的曝光光路:光源的光依次与第一全反镜（2），分束镜（3）；第二全反镜（4），第三全反镜（5）；第一空间滤波器（6）；第二空间滤波器（7）；凹面全息光栅基片（8）通过光连接；凹面全息光栅基片（8）放置于二维平移装置（12）上方的夹具（9）内；B)所述的二维平移装置结构：所述的二维平移装置（12）底部连接旋转台（13），二维平移装置上表面设置有二维移动滑道，二维平移装置的上方连接移动滑块，移动滑块底部的滑轨与滑道连接，移动滑块相邻侧端分别连接X方向移动旋钮10，Y方向移动旋钮11，移动滑块上方固接夹具（9），曝光光路系统的凹面全息光栅基片（8）置于夹具（9）内。
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