[发明专利]一类含稀土拓扑热电材料的制备方法无效
申请号: | 201210171955.4 | 申请日: | 2012-05-30 |
公开(公告)号: | CN102709461A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 霍德璇;王江峰;廖罗兵;李妙;李领伟;钱正洪 | 申请(专利权)人: | 杭州电子科技大学 |
主分类号: | H01L35/34 | 分类号: | H01L35/34;H01L35/16;B22F9/04;B22F3/10 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 杜军 |
地址: | 310018 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一类含稀土拓扑热电材料的制备方法。化学通式为RXT3的单相材料很难通过通常的熔炼方法获得。本发明首先将稀土金属、VA族半导体材料和VIA族半导体材料按照摩尔比1:1:3混合后放入反应容器中,将反应容器抽真空后加热至900~1100℃,保温5~20小时,再自然冷却至常温,取出中间产物放入球磨机的球磨罐中,将球磨罐抽真空后球磨3~20小时,获得含稀土的拓扑热电材料粉体;将粉体在真空或氩气保护下烧结,获得致密的含稀土拓扑热电块体材料,其结构式为RXT3。本发明方法工艺简单、合成时间短、适用于工业化生产。利用本发明方法获得的材料的热导率低、密度高,并且具有良好的导电性。 | ||
搜索关键词: | 一类 稀土 拓扑 热电 材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
一类含稀土拓扑热电材料的制备方法,其特征在于该方法的具体步骤是:步骤(1).将稀土金属、VA族半导体材料和VIA族半导体材料按照摩尔比1:1:3混合后放入反应容器中;所述的稀土金属为镧、铈、镨、钕、钷、钐、铕、钆、铽、镝、钬、铒、铥、镱、镥中的一种或两种的组合;所述的VA族半导体材料为锑或铋;所述的VIA族半导体材料为碲、硒、硫中的一种;步骤(2).将反应容器抽真空,真空度小于等于3×10‑4 Pa,然后将反应容器密封;步骤(3).将密封的反应容器加热至 900~1100 ℃,保温5~20小时,然后自然冷却至常温,反应容器中取出中间产物;步骤(4).将中间产物放入球磨机的球磨罐中,将球磨罐抽真空,真空度小于等于3×10‑4 Pa,然后将球磨罐密封;步骤(5).开启球磨机,球磨3~20小时,获得含稀土的拓扑热电材料粉体,其结构式为RXT3;其中R为稀土金属元素、X为VA族半导体材料元素、T为VIA族半导体材料元素;步骤(6).将含稀土的拓扑热电材料粉体在真空或氩气保护下烧结,获得致密的含稀土拓扑热电块体材料。
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