[发明专利]滑动装置和采用该滑动装置的滑动系统无效
申请号: | 201210175177.6 | 申请日: | 2012-05-30 |
公开(公告)号: | CN102808163A | 公开(公告)日: | 2012-12-05 |
发明(设计)人: | 广濑正明;铃木义信;足立幸志 | 申请(专利权)人: | 株式会社电装;国立大学法人东北大学 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/40;C23C16/42;C23C14/06;C23C14/08;F02F3/10 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 陈松涛;夏青 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 在滑动装置(10)中,第一基础构件(11)和第二基础构件(12)相对于彼此滑动。将硬碳膜(13)设置在所述第一基础构件(11)的第一表面(11a)和与所述第一基础构件(11)的第一表面(11a)相对的第二基础构件(12)的第二表面(12a)中的至少一个表面上。此外,将中间层(14)设置在所述硬碳膜(13)与所述第一基础构件(11)的第一表面(11a)和所述第二基础构件(12)的第二表面(12)中的所述一个表面之间。所述中间层(14)由含有硅和氧的化合物构成。 | ||
搜索关键词: | 滑动 装置 采用 系统 | ||
【主权项】:
一种滑动装置,包括:具有第一表面(11a)的第一基础构件(11);具有第二表面(12a)的第二基础构件(12),所述第二表面(12a)与所述第一表面(11a)相对,所述第一基础构件(11)和所述第二基础构件(12)相对于彼此滑动;设置在所述第一基础构件(11)的所述第一表面(11a)和所述第二基础构件(12)的所述第二表面(12a)中的至少一个表面上的硬碳膜(13);以及设置在所述硬碳膜(13)与所述第一基础构件(11)的所述第一表面(11a)和所述第二基础构件(12)的所述第二表面(12a)中的所述一个表面之间的中间层(14),所述中间层(14)由含有硅和氧的化合物构成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社电装;国立大学法人东北大学,未经株式会社电装;国立大学法人东北大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210175177.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的