[发明专利]钴靶材组件的制作方法有效
| 申请号： | 201210182775.6 | 申请日： | 2012-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN103451606A | 公开（公告）日： | 2013-12-18 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;潘靖 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C18/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市余姚*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种钴靶材组件的制作方法，所述方法包括：提供钴靶材，所述钴靶材的钴含量大于90%；利用化学镀工艺，在所述钴靶材焊接面上形成镍镀层；将化学镀处理后的钴靶材焊接至背板。采用本发明的技术方案，可以提供结合牢固度高的钴靶材组件。 | ||
| 搜索关键词： | 钴靶材 组件 制作方法 | ||
【主权项】：
一种钴靶材组件的制作方法，其特征在于，所述方法包括：提供钴靶材，所述钴靶材的钴含量大于90%；利用化学镀工艺，在所述钴靶材焊接面上形成镍镀层；将化学镀处理后的钴靶材焊接至背板。
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