[发明专利]光学V型槽基板的精密成型工艺无效

专利信息
申请号: 201210186831.3 申请日: 2012-06-07
公开(公告)号: CN102707376A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 吴传洁 申请(专利权)人: 深圳市中兴新地通信器材有限公司
主分类号: G02B6/122 分类号: G02B6/122;G02B6/25
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518129 广东省深圳市龙*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种光学V型槽基板的精密成型工艺,包括以下步骤:台阶加工步骤,在片状光学基板上加工若干均匀分布的平行的台阶,台阶之间留出待加工V型槽区域;基板切割步骤,将加工好台阶的片状光学基板按照待加工V型槽区域的数量切割成若干条状光学基板,每个条状光学基板包括有一个台阶和一个待加工V型槽区域;V型槽切割步骤,将所述条状光学基板置于恒温循环冷却水中,在所述待加工V型槽区域内切割若干均匀分布的V型槽;基板成型步骤,将切割好V型槽的条状光学基板按照V型槽的数量切割成若干单个光学V型槽基板。本发明可保证V型槽的加工精度在1um以内,并提高生产效率。
搜索关键词: 光学 型槽基板 精密 成型 工艺
【主权项】:
一种光学V型槽基板的精密成型工艺,其特征在于,包括以下步骤:台阶加工步骤,在片状光学基板上加工若干均匀分布的平行的台阶,台阶之间留出待加工V型槽区域;基板切割步骤,将加工好台阶的片状光学基板按照待加工V型槽区域的数量切割成若干条状光学基板,每个条状光学基板包括有一个台阶和一个待加工V型槽区域;V型槽切割步骤,将所述条状光学基板置于恒温循环冷却水中,在所述待加工V型槽区域内切割若干均匀分布的V型槽;基板成型步骤,将切割好V型槽的条状光学基板按照V型槽的数量切割成若干单个光学V型槽基板。
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