[发明专利]一种吡喃类含氟化合物、制备方法及其用途有效
| 申请号： | 201210186974.4 | 申请日： | 2012-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN102718736A | 公开（公告）日： | 2012-10-10 |
| 发明（设计）人： | 杭德余;梁现丽;姜天孟;田会强;陈海光;高立龙;班全志;贺树芳 | 申请（专利权）人： | 北京八亿时空液晶科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C07D309/04 | 分类号： | C07D309/04;C07D309/06;C09K19/34 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王朋飞;张庆敏 |
| 地址： | 100085 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种吡喃类含氟化合物，其结构如通式(I)所示。本发明还涉及了所述吡喃类含氟化合物的制备方法以及其在制备液晶材料中的用途。本发明技术方案提供了一种吡喃类含氟衍生化合物，合成方法简便，能改变现有液晶材料的性质，使液晶材料更加适用于TFT液晶显示器件，扩大了液晶化合物的种类、提升了液晶材料的品质，具有广阔的应用前景。 |
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| 搜索关键词： | 一种 吡喃类含 氟化 制备 方法 及其 用途 | ||
【主权项】：
1.一种吡喃类含氟化合物，其结构如通式(I)所示：![]()
其中，R1和R2独立地选自C1～C12的烷基或烷氧基、或C2～C12的烯基；L1和L2选自F或H，且L1和L2中的一个或两个为F；![]()
表示六元环中一个-CH2-被氧原子取代的1，4-亚环己基。
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